創業から現在に至るまでの当社の歴史をご紹介します。
- 1956
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4月
浅田榮一 昭栄化学株式会社を東京都中央区築地に設立
- 1959
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6月
昭栄化学工業株式会社に商号変更
- 1962
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5月
東京都練馬区豊玉北に本社及び工場を移転
- 1967
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4月
東京都青梅市末広町に事業所を開設
- 1974
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4月
本社を東京都新宿区西新宿・新宿住友ビルに移転
- 1983
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11月
本社を東京都新宿区西新宿・新宿三井ビルに移転
- 1987
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1月
佐賀県鳥栖市藤木町に事業所を開設
- 1993
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10月
米国法人を設立 SHOEI ELECTRONIC MATERIALS, INC.
- 1995
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12月
シンガポール法人を設立 SHOEI CHEMICAL SINGAPORE PTE LTD
- 1998
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8月
鳥栖事業所 ISO14001の認証を取得
- 2003
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3月
鳥栖事業所 ISO9001の認証を取得
- 2007
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5月
CANADIAN ELECTRONIC POWDERS CORPORATIONを 完全子会社化
- 2011
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5月
鳥栖事業所 ISO/TS16949の認証を取得
- 2012
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5月
カナダ法人を設立 SHOEI CANADA CORPORATION
- 2013
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4月
SHOEI CANADA CORPORATIONを存続会社として
CANADIAN ELECTRONIC POWDERS CORPORATIONを吸収合併
- 2016
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6月
鳥栖事業所事務棟完成
- 2018
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2月
青梅事業所の研究開発部門を鳥栖事業所へ移転し、青梅事業所を閉所
- 2020
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8月
QD事業にて米国Nanosys社との連携を発表
- 2023
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8月
QD事業にて米国Nanosys社のQD事業を買収
- 2024
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1月
福岡県糸島市東に事業所を開設
- 1957
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沈降促進剤セパール101の販売を開始
- 1958
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フェライト用酸化Niの製造及び販売を開始
- 1959
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円板型磁器コンデンサ用銀液の製造及び販売を開始
- 1963
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導電用銀塗料 特許第一号取得
- 1965
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円筒型磁器コンデンサ用Agペーストの製造及び販売を開始
- 1966
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圧電素子用Agペーストの製造及び販売を開始
- 1968
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厚膜ハイブリッドIC用AgPdペーストの製造及び販売を開始
- 1970
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厚膜ハイブリッドIC用RuO2抵抗ペーストの製造及び販売を開始
- 1971
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表示管回路用Auペーストの製造及び販売を開始
- 1972
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導電接着剤用、プリント配線板回路用Agペーストの製造及び販売開始
- 1973
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積層コンデンサ内部電極用Pdペーストの製造及び販売を開始
- 1978
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積層コンデンサ用Agペースト、ガラスペーストの製造及び販売を開始
- 1980
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太陽電池用Agペーストの製造及び販売を開始
- 1982
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積層コンデンサ用AgPdペーストの製造及び販売を開始
- 1989
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積層セラミックコンデンサ外部電極用Niペーストの製造及び販売を開始
- 1991
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噴霧熱分解法による金属粉末製造技術の開発
- 1991
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積層セラミックコンデンサ用Pd粉末・AgPd粉末の製造及び販売を開始
- 1995
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積層セラミックコンデンサ外部電極用Cuペーストの製造及び販売開始
- 1997
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積層セラミックコンデンサ内部電極用Ni粉末及びNiペーストの製造及び販売を開始
- 2002
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新たな噴霧熱分解法による金属粉末製造技術の開発
- 2007
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PVD法による金属粉末の超微細化技術を開発
- 2016
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メタルコアインダクタ用磁性粉末、ガラスコートCuNi合金粉末の製造及び販売を開始
- 2017
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量子ドットの量産化技術を開発
- 2021
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QD製品の製造及び販売を開始
